在工艺研发阶段,芯片设计公司与晶圆厂的合作是一个高度协同的、系统化的技术开发过程,目的在于构建一套可量产的、性能可控的制造工艺平台。
可以将芯片设计公司视为“建筑设计师”,而晶圆厂则是“建筑承包商”。设计公司需要开发一套满足其芯片设计要求的工艺流程,而晶圆厂提供“建筑工地”(即产线)和“施工工具”(设备与材料)。双方通过多轮协作,共同开发出一套定制化的制造平台——即专属工艺平台。
芯片设计公司职责:
明确自身芯片的设计需求(如电性能、器件结构、成本、良率等)。
基于对产品的技术规格要求,构建初步的工艺流程设想。
晶圆厂职责:
提供现有产线能力参数(如可用材料、工艺节点、光刻精度等)。
协助评估设计公司方案的可制造性(DFM)。
???? 目标产出:一份可执行的工艺开发蓝图。
设计公司:
基于晶圆厂的工艺能力,利用仿真工具对器件结构和制造流程进行建模分析(如TCAD仿真)。
开展初步版图设计并准备测试芯片结构。
晶圆厂:
提供工艺仿真数据与基础模型支持,协助调整参数。
配合完成早期试产计划的安排。
???? 目标产出:首轮流片的测试设计和验证计划。
设计公司:
提供完整的工艺流程设计文件与测试芯片版图。
主导功能测试和性能评估。
晶圆厂:
按照双方协定流程进行首轮流片,提供测试芯片。
确保试产期间关键工艺环节可控。
???? 目标产出:第一轮物理样片及其性能数据。
设计公司:
对样片进行电学特性、失效分析、性能偏差分析。
根据测试结果反复修订器件结构和工艺参数。
晶圆厂:
提供过程数据、缺陷分析报告,协助解决良率/一致性问题。
支持反复流片,直至达成性能与制造稳定性目标。
???? 目标产出:稳定、可复现的工艺流程。
芯片公司拥有并编制:
工艺流程文档(涵盖每一步工艺条件和参数)。
专属PDK(工艺设计套件,包括器件模型、DRC/LVS规则、版图符号等)。
应用文档(指导设计部门使用该平台进行芯片设计)。
晶圆厂拥有:
制造实施能力,但不拥有PDK和工艺文档的知识产权。
权责在于保密、按协议执行制造流程。
签署保密协议(NDA),晶圆厂不得擅自复制或泄露设计公司提供的专有工艺信息;
工艺知识产权归属设计公司,晶圆厂仅负责“制造执行”;
费用一般按流片批次或工艺开发里程碑节点进行支付。
这一阶段本质上是“设计公司定制一条适合自己产品的制造路径”,晶圆厂则相当于按图施工。双方需在工艺开发上反复磨合,最终达成可稳定量产的制造平台。这一过程的成功,直接影响芯片后续的性能、良率和成本。