在芯片制造和封装的复杂世界中,任何微小的缺陷都可能导致产品失效。当工程师在晶背红外(IR)检测中发现一条笔直的裂纹时,这往往会引起警觉。这条看似简单的裂纹背后,可能隐藏着从晶圆制造到封装过程中的一系列潜在问题。本文将从问题排查的角度,深入探讨芯片晶背IR检测中发现笔直裂纹的常见原因及其排查思路。
什么是晶背IR检测?
红外(Infrared, IR)检测是一种非破坏性的失效分析技术,它利用硅材料对特定波长红外光的穿透性。通过红外显微镜,工程师可以从芯片的背面(晶背)观察到芯片内部的结构,包括电路、焊点以及可能存在的缺陷,如裂纹、空洞或分层。

相比于传统的正面光学检测,晶背IR检测在不破坏封装的情况下,提供了独特的内部视角,尤其适用于检测芯片内部或背面起源的缺陷。
笔直裂纹的特征与初步判断
观察实际案例中的IR图像(见下图),我们可以看到一条非常笔直的裂纹贯穿了芯片区域。这与随机分布的、不规则的“蜘蛛网状”裂纹有显著不同。

笔直的裂纹往往暗示着其形成与结构性应力或特定工艺方向密切相关。例如,它可能沿着晶体学方向(解理面)、机械加工路径(如划片线)或封装过程中的线性受力点延伸。这种方向性是排查问题根源的核心线索。
核心问题:笔直裂纹的常见成因
芯片晶背的笔直裂纹通常不是偶然形成的,以下是几个关键的“嫌疑”环节:
1. 晶圆减薄(Back Grinding)损伤
为了满足轻薄封装的需求,晶圆背面需要经过机械研磨减薄。如果研磨压力过大、磨轮粒度选择不当或冷却不足,会在晶圆背面留下微小的横向划痕。
失效机理:这些划痕不仅是物理损伤,更是应力集中点。在后续的高温或机械加工中,应力会沿着这些笔直的划痕释放,诱发贯穿性裂纹。
2. 划片(Dicing)工艺应力
划片是将晶圆分割成独立芯片的过程。无论是金刚石刀片切割还是激光切割,都会在边缘产生热应力和机械应力。
失效机理:如果切割速度过快或刀片磨损,会导致背面崩裂(Backside Chipping)。这些笔直的崩边点极易演变为向芯片内部延伸的笔直裂纹。

3. 封装固晶(Die Attach)中的机械挤压
在固晶环节,芯片被吸取并放置在基板上。这个动作涉及多个潜在的受力点:
顶针(Ejector Pin)压力:为了将芯片从蓝膜上顶起,顶针会从背面施加压力。如果顶针高度不一致、数量不足或压力过大,会在芯片背面造成局部应力集中。
吸嘴(Pick-up Tool)偏移:如果吸嘴抓取不平衡,会在芯片表面和背面形成剪切应力。

4. 热失配与应力释放
芯片、固晶胶和基板的热膨胀系数(CTE)各不相同。在回流焊或可靠性测试(如TC温度循环)中,剧烈的温度变化会产生巨大的热应力。如果芯片背面本身存在微小的笔直划痕,热应力会首选这些路径进行释放,最终形成肉眼可见的笔直裂纹。
本案例故障可能性分析:Sealring(密封环)区域的失效

当裂纹故障位置高度统一、批量发生,且都发生在Sealring边缘并向芯片内部开裂,并且开裂区域基本都在相同区域时,这强烈指向Sealring本身或其周边工艺的特定问题,而非随机缺陷。
Sealring的主要作用是作为一道“防线”,阻止划片过程中产生的微裂纹向芯片内部有源区扩展,同时也能防止湿气和污染物侵入 。
失效机理:
划片应力过大:若划片过程中产生的应力超过了Sealring的设计承受能力,或者划片路径过于靠近Sealring,可能导致Sealring结构受损,使其无法有效阻挡裂纹,甚至成为裂纹的起始点 。
Sealring设计缺陷:Sealring的几何形状、材料选择或层数设计不合理,可能导致其在特定应力下失效。例如,Sealring与芯片主体材料的界面应力集中,或Sealring本身存在制造缺陷 。
工艺窗口偏移:在批量生产中,如果划片、减薄或封装等关键工艺参数发生系统性偏移,导致Sealring区域持续受到异常应力,就会引发批量性的裂纹失效,并且这些裂纹往往集中在晶圆或芯片的特定区域。

系统性排查思路
面对这种笔直裂纹,建议按照以下步骤进行“断案”:
排查步骤 | 操作要点 | 目的 |
1. 裂纹定位 | 确认裂纹是否与划片线平行,或是否经过固晶顶针位置。 | 锁定应力来源方位。 |
2. 工艺追溯 | 检查同批次减薄、划片和固晶的参数记录。 | 发现参数漂移或设备异常。 |
3. 形貌分析 | 使用SEM观察裂纹断口,寻找起始点(Origin)。 | 确认裂纹是从背面起始还是边缘起始。 |
4. 应力模拟 | 针对特定封装结构进行有限元分析(FEA)。 | 验证结构设计是否存在应力集中区。 |